Go to Top
кре́мний

Высокие технологии для солнечной энергетики

Silizium

В производстве кремния по методу Siemens высокочистый трихлорсилан в присутствии водорода термически разлагается при температуре 1000 до 1200° C и откладывается на стержнях чистого кремния. В тесном сотрудничестве с SiTec для этой процедуры был разработан лабораторный CVD реактор, для которого мы поставили силовую электронику и управление. Этот реактор необходим для обеспечения защищенного от загрязнений процесса производства поликремния.

Эксплуатация реактора происходит через нашу удобную пакетную систему, которая позволяет пользователям очень гибко регулировать параметры процесса. Непрерывная запись измеряемых данных и протоколирование каждого пакетного шага позволят непрерывно оценивать процесс разделения.

Признаки

  • Отказоустойчивое управление
  • Взрывобезопасная установка
  • Ввод в эксплуатацию (по всему миру)
  • Сопровождение соответствия TÜV
  • Малое серийное производство
  • Постоянная модернизация

Cookie-Einstellung

Bitte treffen Sie eine Auswahl. Weitere Informationen zu den Auswirkungen Ihrer Auswahl finden Sie unter Hilfe.

Treffen Sie eine Auswahl um fortzufahren

Ihre Auswahl wurde gespeichert!

Hilfe

Hilfe

Um fortfahren zu können, müssen Sie eine Cookie-Auswahl treffen. Nachfolgend erhalten Sie eine Erläuterung der verschiedenen Optionen und ihrer Bedeutung.

  • Alle Cookies zulassen:
    Jedes Cookie wie z.B. Tracking- und Analytische-Cookies.
  • Nur First-Party-Cookies zulassen:
    Nur Cookies von dieser Webseite.
  • Keine Cookies zulassen:
    Es werden keine Cookies gesetzt, es sei denn, es handelt sich um technisch notwendige Cookies.

Sie können Ihre Cookie-Einstellung jederzeit hier ändern: Datenschutz. Impressum

Zurück