Go to Top
кре́мний

Высокие технологии для солнечной энергетики

Silizium

В производстве кремния по методу Siemens высокочистый трихлорсилан в присутствии водорода термически разлагается при температуре 1000 до 1200° C и откладывается на стержнях чистого кремния. В тесном сотрудничестве с SiTec для этой процедуры был разработан лабораторный CVD реактор, для которого мы поставили силовую электронику и управление. Этот реактор необходим для обеспечения защищенного от загрязнений процесса производства поликремния.

Эксплуатация реактора происходит через нашу удобную пакетную систему, которая позволяет пользователям очень гибко регулировать параметры процесса. Непрерывная запись измеряемых данных и протоколирование каждого пакетного шага позволят непрерывно оценивать процесс разделения.

Признаки

  • Отказоустойчивое управление
  • Взрывобезопасная установка
  • Ввод в эксплуатацию (по всему миру)
  • Сопровождение соответствия TÜV
  • Малое серийное производство
  • Постоянная модернизация